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§ 3 Abs 2 Z 4 GMG; § 1 Z 4 PatV-EG; Art 79 Abs 2 EPÜ; Art 158 Abs 2 EPÜ

ÖBl-LeitsätzeMusterrechtUniv. Prof. Dr. Helmut Gamerith, Univ. Innsbruck (Bearbeitung)Bl-LS 2010/121Bl-LS 2010, 183 Heft 4 v. 1.7.2010

Zusammenfassung: Hier hat der OPM Fragen iZm dem Stand der Technik betreffend ein Gebrauchsmuster im Verhältnis zu einer prioritätsälteren europäischen Patentanmeldung sowie zu der impliziten Offenlegung in einer prioritätsälteren Anmeldung behandelt.

Rechtsgrundlagen: § 3 Abs 2 Z 4 GMG; § 1 Z 4 PatV-EG; Art 79 Abs 2 EPÜ; Art 158 Abs 2 EPÜ

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